在微电子工业中,Nh3·H2O可作刻蚀剂H2O2的清除剂,所发生反应的产物不污染环境的化学方程式怎么知道是2NH3·H2O+3H2O2====N2+8H2O呢.我就写成了生成NH3和O2和H2O……一直不会写这种不知道产物的方程

来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/04/30 01:45:46
在微电子工业中,Nh3·H2O可作刻蚀剂H2O2的清除剂,所发生反应的产物不污染环境的化学方程式怎么知道是2NH3·H2O+3H2O2====N2+8H2O呢.我就写成了生成NH3和O2和H2O……一直不会写这种不知道产物的方程

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在微电子工业中,Nh3·H2O可作刻蚀剂H2O2的清除剂,所发生反应的产物不污染环境的化学方程式
怎么知道是2NH3·H2O+3H2O2====N2+8H2O呢.
我就写成了生成NH3和O2和H2O……
一直不会写这种不知道产物的方程式啊……求指教TAT

在微电子工业中,Nh3·H2O可作刻蚀剂H2O2的清除剂,所发生反应的产物不污染环境的化学方程式怎么知道是2NH3·H2O+3H2O2====N2+8H2O呢.我就写成了生成NH3和O2和H2O……一直不会写这种不知道产物的方程
氧化还原反应中,化合价的升降要保持平衡!如果声称O2就没有降价的元素了!所以生成物必然是N2和H2O.
你是做微电子行业的吗?能加个好友吧,我也学的微电子学与固体电子学专业.

在微电子工业中,Nh3·H2O可作刻蚀剂H2O2的清除剂,所发生反应的产物不污染环境的化学方程式怎么知道是2NH3·H2O+3H2O2====N2+8H2O呢.我就写成了生成NH3和O2和H2O……一直不会写这种不知道产物的方程 三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3 NF3 + 5 H2O = 2 NO + HNO3 + 9 HF.下列有关该反应的说法正确的是A.NF3是氧化剂,H2O是还原剂 三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3 NF3 + 5 H2O = 2 NO + HNO3 + 9 HF.下列有关该反应的说法正确的是A.NF3是氧化剂,H2O是还原剂B.还原剂与氧化 氢氟酸是一种弱酸可用来刻蚀玻璃氢氟酸是一种弱酸,可用来刻蚀玻璃.已知25 ℃时:①HF(aq)+OH-(aq)===F-(aq)+H2O(l) H=-67.7 kJ·mol-1②H+(aq)+OH-(aq)===H2O(l) H=-57.3 kJ·mol-1在20 mL 0.1 mol·L-1氢氟酸中加 硅谷工业有什么特点?硅谷在微电子工业中占什么地位?它的兴起主要有那些条件? NH3·H2O中NH3怎么与H2O结合的 工业废气NO.NO2是造成大气污染的气体之一,工业上常用原理:NOx+NH3→N2+H2O,使其转化为无毒的N2,现有NO,NO2的混合3.0L,可与3.5L相同状况的NH3完全反应,全部转化为N2,则在原混合气体中NO和NO2的物质 有一个化学反应中生成了氨气和水,在化学方程式里面,是写NH3+H2O还是NH3·H2O? 氨水(NH3·H2O)中·是什么意思 是不是在氨水中,NH3·H2O:NH4+大约等于10:1;而在NH4Cl溶液中NH4+:NH3·H2O大约等于10: [例1]在0.1mol/L的NH3·H2O溶液中,下列关系正确的是( ) A、[NH3·H2O]>[OH-]>[NH4+]>[H+] B、[NH4[例1]在0.1mol/L的NH3·H2O溶液中,下列关系正确的是(   )A、[NH3·H2O]>[OH-]>[NH4+]>[H+]B、[NH4+]> [NH3·H2O]>[OH-]>[ 在0.1 mol/L^-1氨水中含A.c(NH3·H2O)=0.1mol/L^-1 B.c(NH3·H2O) 25°C下,在NH3·H2O稀溶液中,加水,{c(H+)*c(NH3·H2O)}/c(NH4+)的值不变.为什么 尿素在70度左右发生水解反应 CO(NH2)2+3H2O=2NH3.H2O+CO2,下列说法中,不正确的是A.尿素的水解液呈碱性 B.通过控制温度可控制产生NH3.H2O的速率C.通过控制尿素浓度可控制产生NH3.H2O的速率 D.反应过程 NH4+,Cl-能在溶液中共存吗不是说NH4Cl+H2O=NH3·H2O+HCl吗? NH3·H2O不稳定 易分解 快速制氨气时 可将氨水滴加到___或__中?如题 钾的水溶液可作刻蚀剂过氧化氢的清除剂、所发生的反应不污染坏境、其化学方程式为 氨水在化学方程式中写NH3.H2O还是NH3?作为溶质时呢?